Advanced Design System 2021简称ADS2021，由安捷伦公司推出的一款电子设计自动化软件，具有完整的自动化设计系统，包括设计编辑、电磁仿真、电路仿真、高速数字设计等多种功能模块，在ADS2021版本中对模块的各个功能进行了升级，结合集成电路3DEM热模拟技术，带来领先的电子设计自动化方案。小编带来的是ADS2021破解版，附有安装教程。

ADS2021安装破解教程

1.下载解压，得到安装文件和破解文件

2.首先运行主程序，双击ads_2021_shp_win_x64.exe文件，开始解压，如图

3.进入安装向导界面，单击【next】

4.出现许可协议界面，勾选【I accept...】接受协议内容

5.选择安装类型，包括完整安装和自定义安装，根据个人需要选择

6.选择安装位置，默认的是【C:\Program Files\Keysight\ADS2021】，可以单击【choose】按钮修改

7.选择当前文件夹名称，默认即可

8.选择许可文件安装位置

9.选择开始菜单文件夹和是否创建桌面图标

10.确认ADS2021安装信息，单击【install】开始安装进程

11.若安装中出现以下问题，只需将以下路径中的文件全部删掉即可;

默认路径【C:\Program Files (x86)\Zero G Registry】

12.成功安装后，点击Done退出安装向导，之后会自动弹出许可证设置向导窗口，点击退出即可;

13.再将破解文件夹中的EEsof_License_Tools到软件安装目录下合并文件夹;

默认目录【C:\Program Files\Keysight】

14.接着以管理员的身份运行server_install.bat程序，直到服务启动成功;

默认路径【C:\Program Files\Keysight\EEsof_License_Tools\bin\win32_64】

15.双击运行破解文件夹中的Keysight_Licensing.reg注册表，确定添加;

16.最后再将ADS2021文件夹复制到以下目录进行替换;

默认目录【默认目录【C:\Program Files\Keysight】

17.安装破解完成，打开软件就可以使用了

ADS2021新功能

一、设计与技术管理

1、一般

当包含网络路径上的许多库时，工作空间性能得到改善。

增强的“复制单元”命令可处理数据显示文件的引用，从另一个工作空间复制单元并提供实用程序来查找和修复丢失的引用。

使第三方版本控制系统支持标记。

支持“补丁”组件。

2、资料显示

DDS方程管理变得容易：

可以通过“查找”>“显示层次结构”命令查看方程式的依存关系信息。

基于文本的类似于电子表格的内容管理系统Expression Manager为传统图形系统提供了一种补充方法，用于添加，查看和编辑所有页面中的方程式和轨迹。表达式管理器可停靠到DDS窗口并与图形系统互操作。

通过从表达式管理器调用的“命令行”对话框，将DDS方程式转换为AEL函数。

能够批量编辑DDS绘图和迹线-例如，插入，编辑，复制多个绘图的迹线，更改迹线属性或绘图属性。

与ADS设计环境的AEL命令行对话框类似，新的命令行工具可用于浏览，编辑和保存用于DDS方程式的AEL函数。

能够导入DDS AEL文件，并通过“文件”>“导入”>“ AEL文件”菜单定义AEL文件的加载频率和时间。可以分别在工作区打开，库打开或ADS启动时触发AEL文件的加载

二、设计编辑

1、增强的布局约束管理器：

能够启用，禁用或设置规则的优先级。

泪滴，除了通过和清除，还可以指定规则。

AEL API可用于启用规则脚本。

2、增强型地平面：

能够“锁定”接地平面的位置。

在复制/粘贴过程中保留接地平面网的能力。

3、增强的Keepout：

能够创建圆形的Keepout。

能够从现有的多边形创建Keepout，反之亦然。

能够使用边缘和顶点手柄的视觉提示来编辑Keepout，类似于多边形编辑。

能够在选择操作中包括/排除Keepout对象。

4、增强路由：

根据定义层，高度，偏移，角度属性的规则，插入了泪滴，这是一种特殊的连接模式，可优化迹线到焊盘，迹线到通孔的连接以改善布局的可制造性。

在跟踪编辑过程中，改进了捕捉，加入其他互连，删除冗余段以及回溯顶点的功能。

5、增强型多技术智能卡口：

除了底部安装和倒装芯片安装类型以外，还增加了多安装类型，以支持在运行时确定芯片的安装类型。

通过文件>自定义Pcell对话框为Smart Mount Pcell定义芯片到模块对齐的能力

6、常规编辑方面的改进：

重新组织了“布局”窗口和“导航器对接”窗口中的上下文相关菜单，以方便进行特定于对象的编辑。

实例位置可以在“属性”停靠窗口中方便地进行编辑。

实例的OpenAccess方向将显示在“信息”对接窗口中。

AEL API可用于启用填充堆栈创建/编辑和常规布局对象编辑。

三、电磁仿真

1、射频专业

无需参数化布局即可分析蚀刻偏差(蚀刻过度/蚀刻不足)和配准偏差(层未对准)的影响。

Simulation Service支持跨平台仿真。Windows / Linux客户端可以将模拟提交到Linux群集。

现在，ADS可以将加密的EMPro 3D组件放置在布局内。可以在RFPro内部无缝模拟这样的组件，从而确保IP的保护。

FEM代2。

现在支持使用加密的基板或包含加密的3D组件的设计仿真。

2、易用性

“新建在层上固定引用”选项用作I / O或组件模型端口定义中的隐式引用。

新的创建增量间隙端口选项可轻松探测设计中的电流或调整设计。

增强的组件模型端口编辑器有助于组件端口设置

轻松叠加S参数/ TDR结果来自不同的分析。

四、电路仿真

1、稳定性分析

添加了对基于Ohtomo环路增益的多晶体管稳定性分析的支持。

提高稳定性后处理功能的效率

2、调制信号设计

虚拟测试台(VTB)

流畅的流程可将SystemVue虚拟测试台(VTB)嵌入ADS内，从而无需更新ADS版本即可进行更新。

现在，常规信封可以在多台计算机上并行处理，从而大大提高了速度

失真EVM：

简化流程，使设计人员更容易设置。

高度非线性电路的快速包络的改进(快速包络Level5)

3、电热

ETH信封模拟加速

Thermal Viewer校正了电源查询中显示的功率值

检查中的“独立”电源的数量

ETH针对许可限制(ADS 2020 Update 2.0)

修复了使用加密热技术时的重用模型提取(ADS 2020 Update 2.0)

瞬态和CE电热模拟现在在中止的一分钟内退出

ETH在Windows中为每次运行使用不同的运行目录(ADS 2020 Update 2.0)

ETH中的多个加密技术文件(ADS2020更新1.0)

现在，FloorPlanner结果可以正确处理为单位指定的功率(ADS2020 Update1.0)

五、设计套件

Si-RFIC PDK模型包含实用程序

引入了新的配置功能

从实用程序本身设置层次结构策略

可扩展对话框

重命名场景

根据全局部分设置全局模型变量

六、高速数字设计

1、DDR /串行器

新的IBIS模型编辑器，用于基于引脚的模型设置和批处理仿真

针对极端情况，模型选择器等的新批处理仿真设置

DDR5 AMI的新统计仿真模式

新的非IBIS流程支持

新的预布局解决方案-DDR_PreLayout组件

Memory Designer现在支持总线传输线

Memory Designer支持DDR_PreLayout组件的HSPICE网表

改进的IBIS模型和PCB数据文件解析器

用于通过/失败报告生成的新设计探索解决方案

使用FlexDCA_Probe进行新的TDECQ测量

新的Infiniium_Probe，可将ADS模拟波形发送到Infiniium离线软件

2、PIPro

DC IR Drop允许不对称的电压容差。

DC IR Drop结果改进了并行和级联VRM的Power Tree扩展。

AC Analysis自动为场图加载吸收激励。

PDN图的快速更新，以启用/禁用组件。

AC Analysis改进了对原理图定义的库模型，多针试金石模型和嵌入式组件的处理。DeCap优化与库模型一起使用，结果Loop Inductance与嵌入式组件一起使用。

生成分析脚本现在包括用户定义的虚拟引脚。

七、电力电子

数据表中的模型

使用制造商数据表中的IV，CV和体二极管测量结果，为适用于Si和SiC功率MOSFET的新型ADS模型提取最佳参数(“模型卡”)。

软件功能

1、常规设计和技术管理以及数据显示改进

2、布局设计编辑改进，用于布线，SmartMount，平面图等

3、布局与布局验证和ADS，Assura和口径DRC和口径LVS链接enh

4、更快的电热/电路包络仿真

5、RFPro EM模拟过程变化分析和动量/FEM Gen 2增强功能

6、RF/W电路仿真：失真EVM，快速电路包络，5G VTB新功能

7、设计套件：增强型Si-RFIC PDK模型包含实用程序

8、SerDes，DDR/存储器，信号和电源完整性的高速数字改进

9、电力电子技术增强功能：Model Builder，PEPro增强功能等